Wasser

Wasser ist eine der kostbarsten Ressourcen – als Trinkwasser, Rohstoff sowie als Löse- und Kühlmittel bei vielen technischen und chemischen Prozessen. Der sparsame Umgang mit Wasser ist für WACKER selbstverständlich, ebenso das bestmögliche Reinigen unserer Abwässer.

Im Jahr 2009 erhöhte sich der Wassereinsatz im Konzern gegenüber 2008 um 10 Prozent. Der Anstieg wurde im Wesentlichen durch die Inbetriebnahme der Ausbaustufe 8 der Polysiliciumproduktion in Burghausen verursacht. Durch den ganzjährigen Betrieb der neuen Rückkühlanlage am Standort Burghausen haben wir im Jahr 2010 im Konzern insgesamt rund fünf Prozent weniger Kühlwasser eingesetzt als 2009. Diese Reduktion wirkt sich entsprechend beim Wassereinsatz aus.

Am Standort Nünchritz gewinnen wir das Wasser überwiegend aus dem werkeigenen Brunnen. Der Anteil von Trinkwasser macht nur ein Prozent unseres gesamten Wasserverbrauchs an diesem Standort aus.

Durch die bakterielle Herstellung von Pharmaproteinen (Fermentation) haben wir die Emissionen in Luft und Wasser am Standort Jena im Vergleich zu konventionellen Fermentationsmethoden um die Hälfte verringert. Diesen positiven Effekt erreichen wir durch die höhere Ausbeute von Pharmaproteinen mit unseren Technologien DENSETEC® (Hochzelldichtefermentation) und ESETEC® (Expressions- und Sekretionssystem). Wir setzen hier Reinstwasser ein, das wir aus Trinkwasser gewinnen.

Unser Geschäftsbereich Siltronic hat Prozessschritte verändert, um weniger Chemikalien einsetzen zu müssen, zum Beispiel bei den Reinigungsbädern für Wafer. Dadurch hat sich die Nitratlast im Abwasser der Siltronic-Standorte in den letzten zehn Jahren um 70 Prozent reduziert. Wir setzen Wasser mehrfach ein, wo immer es die Reinheitsanforderungen für die Waferproduktion erlauben. So haben wir den Verbrauch von demineralisiertem (entionisiertem) Wasser in den letzten zehn Jahren ohne Qualitätseinbußen in Burghausen um 20 und in Portland um 30 Prozent gesenkt.

Zur Produktion von Dispersionen betreibt unserer koreanischer Standort Ulsan Prozessreaktoren. Diese säubern wir vorzugsweise mit Poliermaschinen. Dadurch haben wir 2010 im Vergleich zu 2003 jährlich 55 Prozent weniger Wasser und 73 Prozent weniger Reinigungsmittel verbraucht. Durch den neuen Reinigungsprozess, bei dem das Spülwasser aus Spraydüsen zerstäubt wird, haben wir auch die Produktqualität verbessert sowie den Durchsatz und damit die Energieeffizienz erhöht.

Der chemische Sauerstoffbedarf (CSB) verringerte sich 2009 deutlich durch das Schließen des Standorts South Brunswick/New Jersey, USA.

Biozönose: Elbwasser untersucht Biozönose: Elbwasser untersucht (Foto)

An unserem Standort Nünchritz haben wir den biologischen Gewässerzustand im Ober- und Unterlauf der Abwassereinleitung aus der Kläranlage in die Elbe untersucht. Bei dieser Biozönose haben wir keine nachteiligen Veränderungen des Elbwassers festgestellt. Insgesamt hat sich der Gewässerzustand der Elbe in den letzten Jahren verbessert. So hat sich ein reicher Fischbestand entwickelt. „Sportfischer angeln gerne im Bereich unseres Kläranlageneinlaufs, denn das Wasser ist in diesem Bereich sehr klar“, erklärt Wolfgang Semmler, Leiter Umweltschutz und Sicherheit im Werk Nünchritz.

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Wassereinsatz / Emissionen in Gewässer1

 

 

 

 

 

 

 

 

2010

 

2009

 

2008

 

 

 

 

 

 

 

1

Ohne Siliciummetallproduktion in Holla, Norwegen

2

Ohne Kühlwasser

3

Der ursprünglich berichtete Wert (252.310.068 m3) wurde auf Grund neuer Erkenntnisse bei der Datenerfassung im Nachgang korrigiert.

4

Berücksichtigung interner und/oder externer Abwasserbehandlung für alle Standorte ab dem Berichtsjahr 2010

Wassereinsatz (m3)

 

252.151.000

 

264.532.000

 

241.286.375

Kühlwassermenge (m3)

 

233.153.000

 

248.061.000

 

218.310.0003

Abwassermenge2 (m3)

 

21.031.000

 

20.002.000

 

22.074.455

CSB chemischer Sauerstoffbedarf4 (t)

 

1.820

 

2.730

 

4.782

AOX halogenierte organische Kohlenwasserstoffe4 (t)

 

6

 

6

 

7

Schwermetalle4 (t)

 

1,3

 

1,6

 

1,7

Stickstoff4 (t)

 

420

 

410

 

460

Phosphor4 (t)

 

7,0

 

5,4

 

9,1